光刻機的分類描述

光刻機的分類描述

光刻機（Mask Aligner) 又名：掩模對(duì)準曝光機，曝光系統，光刻系統等，是制造芯片的核心裝備。它采用(yòng)類似照片沖印的技術，把掩膜版上(shàng)的精細圖形通過光線的曝光印制到(dào)矽片上(shàng)。光刻機的主要性能(néng)指标有：支持基片的尺寸範圍，分辨率、對(duì)準精度、曝光方式、光源波長、光強均勻性、生産效率等。

光刻機一般根據操作(zuò)的簡便性分爲三種，手動、半自(zì)動、全自(zì)動

1、手動：指的是對(duì)準的調節方式，是通過手調旋鈕改變它的X軸，Y軸和(hé)thita角度來(lái)完成對(duì)準，對(duì)準精度可想而知(zhī)不高(gāo)了(le)；

2、半自(zì)動：指的是對(duì)準可以通過電動軸根據CCD的進行定位調諧；