今天咱們來(lái)講述下(xià)關于光刻機的性能(néng)特點

光刻機（Mask Aligner) 又名：掩模對(duì)準曝光機，曝光系統，光刻系統等，是制造芯片的核心裝備。它采用(yòng)類似照片沖印的技術，把掩膜版上(shàng)的精細圖形通過光線的曝光印制到(dào)矽片上(shàng)。

光刻機該機可采用(yòng)紫外(wài)光、深紫外(wài)光、甚至更短波長的極紫外(wài)光作(zuò)爲光源，用(yòng)DMD數字微鏡陣列替代傳統掩模闆，采用(yòng)積木(mù) 錯位蠅眼透鏡實現(xiàn)高(gāo)均勻照明(míng)。

該機可采用(yòng)紫外(wài)光、深紫外(wài)光、甚至更短波長的極紫外(wài)光作(zuò)爲光源，用(yòng)DMD數字微鏡陣列替代傳統掩模闆，采用(yòng)積木(mù) 錯位蠅眼透鏡實現(xiàn)高(gāo)均勻照明(míng)，并配備了(le)雙目雙視(shì)顯微鏡和(hé)CCD圖象對(duì)準系統（可同時(shí)使用(yòng)），拼接獲得大(dà)面積圖形，曝光設定采用(yòng)微機控制，菜單界面友好(hǎo)，操作(zuò)簡便。

光刻機的主要性能(néng)指标有：支持基片的尺寸範圍，分辨率、對(duì)準精度、曝光方式、光源波長、光強均勻性、生産效率等。

分辨率是對(duì)光刻工(gōng)藝加工(gōng)可以達到(dào)的最細線條精度的一種描述方式。光刻的分辨率受受光源衍射的限制,所以與光源、光刻系統、光刻膠和(hé)工(gōng)藝等各方面的限制。

對(duì)準精度是在多層曝光時(shí)層間圖案的定位精度。

曝光方式分爲接觸接近式、投影式和(hé)直寫式。

曝光光源波長分爲紫外(wài)、深紫外(wài)和(hé)極紫外(wài)區(qū)域，光源有汞燈，準分子激光器等。

分類

光刻機一般根據操作(zuò)的簡便性分爲三種，手動、半自(zì)動、全自(zì)動

A 手動：指的是對(duì)準的調節方式，是通過手調旋鈕改變它的X軸，Y軸和(hé)thita角度來(lái)完成對(duì)準，對(duì)準精度可想而知(zhī)不高(gāo)了(le)；

B 半自(zì)動：指的是對(duì)準可以通過電動軸根據CCD的進行定位調諧；

C 自(zì)動： 指的是 從(cóng)基闆的上(shàng)載下(xià)載，曝光時(shí)長和(hé)循環都是通過程序控制，自(zì)動光刻機主要是滿足工(gōng)廠(chǎng)對(duì)于處理(lǐ)量的需要。