看(kàn)看(kàn)URE-2000/35型紫外(wài)光刻機都有哪些(xiē)突破傳統的優勢？

　　随着電子工(gōng)業的快(kuài)速發展，對(duì)作(zuò)爲電子元器件基礎的印制闆的需求和(hé)對(duì)加工(gōng)精度的要求越來(lái)越高(gāo)。URE-2000/35型紫外(wài)光刻機是印制闆制造過程中的重要設備。傳統的光刻機在生産過程中需要人工(gōng)吹膜，需要經常更換薄膜。由于散熱系統過于臃腫，其生産成本高(gāo)、效率低(dī)，已不能(néng)滿足PCB生産的需要。在實驗的基礎上(shàng)，設計(jì)了(le)一種雙層玻璃幹燥架光刻機，對(duì)其主要部件進行了(le)改進，包括幹燥架系統、光路系統、冷卻系統、電氣和(hé)控制系統的整體設計(jì)。

　　在計(jì)算(suàn)機的控制下(xià)，URE-2000/35型紫外(wài)光刻機利用(yòng)聚焦電子束對(duì)有機聚合物（通常稱爲電子抗蝕劑或光刻膠）進行曝光。光刻膠改變其物理(lǐ)和(hé)化學性質，在一定的溶劑中形成良好(hǎo)或不良的溶解區(qū)域，從(cóng)而在抗蝕劑上(shàng)形成精細的圖案。
 

　　紫外(wài)投影光刻是将特定形狀的光斑投射到(dào)器件表面塗覆的光刻膠上(shàng)，使光刻膠在照射區(qū)域發生化學變化，曝光顯影後可形成微米級精密圖案；進一步的蝕刻或蒸發可以在樣品表面形成所需的結構。UV投影光刻作(zuò)爲材料、器件、微結構和(hé)微器件的常用(yòng)制備技術，廣泛應用(yòng)于維納結構制備、半導體器件電極制備、太赫茲/毫米波器件制備、光掩模制備、PCB制造等應用(yòng)領域。常規UV投影光刻機需要先制作(zuò)掩膜版。耗材成本高(gāo)、生産周期長，難以滿足材料器件實驗室對(duì)靈活性和(hé)實驗進度的要求。近年來(lái)發展起來(lái)的無掩模光刻技術突破了(le)這(zhè)一技術局限，實現(xiàn)了(le)任意形狀編程、自(zì)動高(gāo)精度大(dà)規模拼接無掩模光刻，随時(shí)将您的設計(jì)轉化爲實際成品，大(dà)大(dà)縮短了(le)開(kāi)發測試周期，強力輔助維納微納器件的制備。

　　URE-2000/35型紫外(wài)光刻機基于多年微納結構制備經驗，自(zì)主研發高(gāo)均勻度UV光源、高(gāo)保真導光路、高(gāo)精度、大(dà)行程、大(dà)承重納米平台等核心技術，結合高(gāo)度穩定的機械結構、自(zì)動化和(hé)軟件設計(jì)，推出全自(zì)動高(gāo)精度無掩模光刻機。