與濕法清洗相比，Harrick等離子清洗機的優勢表現(xiàn)在哪裏？

　　等離子體是物質的一種存在狀态。通常，物質以固體、液體和(hé)氣體三種狀态存在，但(dàn)在某些(xiē)特殊情況下(xià)，它可以以第四種狀态存在，例如太陽表面的物質和(hé)地球大(dà)氣電離層中的物質。這(zhè)種物質的狀态稱爲等離子體态，也(yě)稱爲物質的第四态。

　　等離子體中存在以下(xià)物質：高(gāo)速運動的電子；處于活化狀态的中性原子、分子和(hé)原子團（自(zì)由基）；電離的原子和(hé)分子；分子解離反應過程中産生的紫外(wài)線；未反應的分子、原子等，但(dàn)物質整體保持電中性。
 

　　與濕式清洗相比，Harrick等離子清洗機的優點如下(xià)：

　　1、等離子清洗後，清洗後的物體非常幹燥，無需幹燥即可送入下(xià)道(dào)工(gōng)序。

　　2、不使用(yòng)三氯乙烯ODS有害溶劑，清洗後不會(huì)産生有害污染物。是一種有利于環境保護的綠色清潔方式。

　　3、可以深入到(dào)物體的微孔和(hé)凹陷處，完成清潔任務，無需考慮被清潔物體形狀的影響。

　　4、Harrick等離子清洗機整個清洗過程可在幾分鐘(zhōng)内完成，因此具有效率高(gāo)的特點。

　　5、等離子清洗的技術特點是可以處理(lǐ)不同的基材而不管處理(lǐ)對(duì)象。無論是金(jīn)屬、半導體、氧化物還是高(gāo)分子材料（如聚丙烯、聚氯乙烯、聚四氟乙烯、聚酰亞胺、聚酯、環氧樹脂等聚合物）都可以很(hěn)好(hǎo)地進行等離子體處理(lǐ)。因此，它特别适用(yòng)于耐熱和(hé)耐溶劑的基材。此外(wài)，可以選擇性地清潔材料的整體、局部或複雜(zá)結構。

　　6、在清洗去污的同時(shí)，還可以改變材料本身的表面性質。如提高(gāo)表面的潤濕性，提高(gāo)薄膜的附着力等。

　　7、自(zì)動化程度高(gāo)；Harrick等離子清洗機采用(yòng)高(gāo)精度控制裝置，時(shí)間控制精度非常高(gāo)；正确的等離子清洗不會(huì)在表面産生損傷層，保證表面質量；由于是在真空(kōng)中進行，不污染環境，保證清潔後的表面不會(huì)受到(dào)二次污染。