Harrick等離子清洗機都有哪幾種清洗方式？

　　等離子體是指弱電解質蒸氣，是電子器件、正離子、分子、分子結構或氧自(zì)由基的結合體。清洗時(shí)，高(gāo)能(néng)電子器件的沖擊反映蒸汽的分子結構，使其離解或削弱電解質，應用(yòng)引起的各種粒子負電子在表面被清洗或與被清洗表面發生化學反應，從(cóng)而在商業上(shàng)消除各種空(kōng)氣污染物。還可以改善材料本身的表面功能(néng)，那麽Harrick等離子清洗機都有哪幾種清洗方式？
 

　　

　　1、化學反應

　　

　　血漿中堿性酶的氧自(zì)由基與材料表面的有機化合物反應，也(yě)叫PE。用(yòng)co2清洗，使非揮發性有機化合物變得揮發性，産生二氧化碳、一氧化碳和(hé)水(shuǐ)。有機清洗的好(hǎo)處是清洗率高(gāo)，選擇性好(hǎo)，能(néng)有效清洗有機化學空(kōng)氣污染物。主要缺點是轉化的金(jīn)屬氧化物可能(néng)會(huì)在材料表面再次産生。在引線鍵合工(gōng)藝中，金(jīn)屬氧化物是最不期望出現(xiàn)的，通過适當選擇工(gōng)藝的主要參數可以避免這(zhè)種缺陷。

　　

　　2、Harrick等離子清洗機物理(lǐ)反應

　　

　　也(yě)叫磁控濺射刻蝕(SPE)是利用(yòng)等離子體中的正離子進行純物理(lǐ)撞擊，去除附着在材料表面的分子。氩氣用(yòng)于清洗，正氩離子以足夠的動能(néng)對(duì)電子器件表面進行負沖擊，沖擊力足以去除所有灰塵。聚合物中的生物大(dà)分子被離子鍵分離成小(xiǎo)分子水(shuǐ)，由機械泵氣化排出。根據氩等離子體清洗，可以改變材料表面的外(wài)部經濟外(wài)觀，使材料在分子結構水(shuǐ)平上(shàng)越來(lái)越“粗糙”，這(zhè)可以大(dà)大(dà)提高(gāo)表面特異性并推進表面的粘附。氩氣低(dī)溫等離子體的好(hǎo)處是不容易将所有金(jīn)屬氧化物留在飾面材料表面。缺陷很(hěn)可能(néng)導緻過度侵蝕或空(kōng)氣污染物顆粒積聚在其他(tā)不可預料的區(qū)域，但(dàn)是這(zhè)種缺陷可以通過微調主要工(gōng)藝參數來(lái)控制。

　　

　　3、Harrick等離子清洗機物理(lǐ)和(hé)化學反應同時(shí)存在

　　

　　物理(lǐ)反應與化學反應均起關鍵功效的清洗。例如，當使用(yòng)Ar和(hé)O2的混合物進行在線等離子體清洗的整個過程時(shí)，化學反應速率必須比單獨使用(yòng)Ar或O2更快(kuài)。正離子加速後，氩氣産生的機械能(néng)可以反映氧離子。因此，環境污染不太樂觀的材料表面可以用(yòng)物理(lǐ)方法消除。