紫外(wài)光刻機的重要技術主要體現(xiàn)在這(zhè)兩個方面

　　紫外(wài)光刻機廣泛應用(yòng)于半導體、微電子、生物器件和(hé)納米技術。并且，該系列光刻機已被多家企業、研發中心、科研院所、大(dà)專院校采用(yòng)作(zuò)爲其光刻系統的基礎；其過硬的技術、良好(hǎo)的服務赢得了(le)廣大(dà)用(yòng)戶的青睐。作(zuò)爲光刻系統，其重要技術在于以下(xià)兩個方面：掩模晶圓對(duì)準和(hé)将掩模上(shàng)的圖案複制到(dào)晶圓上(shàng)，爲下(xià)一步或離子注入工(gōng)藝做準備。

　　紫外(wài)光刻機的曝光方式采用(yòng)壓力可調的接觸曝光，有效減少光刻膠對(duì)掩模版的污染和(hé)掩模版的磨損，從(cóng)而提高(gāo)掩模版的使用(yòng)壽命。該機采用(yòng)i-line紫外(wài)曝光光源，光學系統采用(yòng)特殊的抗衍射和(hé)線陡增強技術，采用(yòng)積木(mù)錯位繩眼透鏡實現(xiàn)高(gāo)光均勻照明(míng)，配備雙目雙目顯微鏡和(hé)CCD圖像對(duì)準系統（可以同時(shí)使用(yòng)）。具有高(gāo)曝光能(néng)量、小(xiǎo)聚焦角、厚膠曝光功能(néng)。曝光設置微電腦(nǎo)控制，菜單界面友好(hǎo)，操作(zuò)簡單。

 

　　該設備采用(yòng)CCD圖像底部對(duì)準技術和(hé)單曝光頭正面曝光的整體設計(jì)技術，實現(xiàn)雙面對(duì)準。采用(yòng)新穎的高(gāo)精度、多自(zì)由度掩模樣品精密對(duì)準工(gōng)作(zuò)台結構設計(jì)，掩模樣品對(duì)準過程直觀，雕刻對(duì)準速度快(kuài)，精度高(gāo)。掩模闆和(hé)樣品的放(fàng)置采用(yòng)推拉式參考闆和(hé)真空(kōng)吸附，操作(zuò)方便。該裝置可用(yòng)于用(yòng)紫外(wài)光照射正膠或負膠，通過顯影可對(duì)樣品進行精細圖案化。

　　紫外(wài)光刻機适用(yòng)于所有标準化光刻應用(yòng)，帶有頂部和(hé)底部對(duì)齊系統。底部對(duì)位系統允許對(duì)基闆的上(shàng)下(xià)表面進行圖形加工(gōng)，适用(yòng)于三五組易碎化合物、不規則基闆、透明(míng)基闆和(hé)碎片的微加工(gōng)。具有鍵合對(duì)準升級功能(néng)和(hé)衍射減少光學系統。曝光方式可以是近距離接觸、軟接觸、硬接觸和(hé)真空(kōng)接觸。