紫外(wài)光刻機是制造集成電路中重要的設備，特别是現(xiàn)在市面上(shàng)大(dà)部分的芯片都是屬于電子芯片，當電子芯片的工(gōng)藝小(xiǎo)于一定的尺寸的時(shí)候，就必須依靠光刻機在制作(zuò)芯片，也(yě)就是說如果沒有光刻機就沒有辦法制造出頂級的芯片，比如市面上(shàng)7nm芯片、5nm芯片等都不可能(néng)造出。而芯片在生活中是重要的，比如電腦(nǎo)、手機等電子産品都少不了(le)。
該光刻機可廣泛用(yòng)于MEMS和(hé)光電子，例如LED生産。它經過**設計(jì)，方便處理(lǐ)各種非标準基片、例如混合、高(gāo)頻元件和(hé)易碎的III-V族材料，包括砷化镓和(hé)磷化铟。而且該設備可通過選配升級套件，實現(xiàn)紫外(wài)納米壓印光刻。它具有以下(xià)亮(liàng)點：高(gāo)分辨率掩模對(duì)準光刻，特征尺寸優于0.5微米、裝配SUSS的單視(shì)場顯微鏡或分視(shì)場顯微鏡，實現(xiàn)快(kuài)速準确對(duì)準、針對(duì)厚膠工(gōng)藝進行優化的高(gāo)分辨光學系統、可選配通用(yòng)光學器件，在不同波長間進行快(kuài)速切換等。
随着電子業的飛(fēi)速發展,對(duì)作(zuò)爲電子元器件基礎的印制闆的需求量及其加工(gōng)精度的要求越來(lái)越高(gāo)。紫外(wài)線光刻機是印制闆制造工(gōng)藝中的重要設備。傳統光刻機的玻璃-邁拉曬架在生産過程中需要人工(gōng)趕氣,邁拉膜需要經常更換。由于冷卻系統過于臃腫,使得其生産成本高(gāo)、效率低(dī),已不能(néng)滿足PC B 生産的需要。在實驗基礎上(shàng)設計(jì)了(le)雙玻璃曬架光刻機，改進了(le)其主要組成部分,包括曬架系統、光路系統、冷卻系統以及電氣和(hé)控制系統的整體設計(jì)。
在計(jì)算(suàn)機的控制下(xià)，利用(yòng)聚焦電子束對(duì)有機聚合物（通常稱爲電子抗蝕劑或光刻膠）進行曝光，受電子束輻照後的光刻膠，其物理(lǐ)化學性質發生變化，在一定的溶劑中形成良溶或非良溶區(qū)域，從(cóng)而在抗蝕劑上(shàng)形成精細圖形。
紫外(wài)光刻機的原理(lǐ)是在已經切割好(hǎo)的晶圓（通常是多晶矽）上(shàng)覆蓋一層具有高(gāo)度光敏感性光刻膠，再用(yòng)光線（一般是紫外(wài)光、深紫外(wài)光、極紫外(wài)光）透過掩模照射在晶圓表面，被紫外(wài)線照射到(dào)的光刻膠會(huì)發生反應。此後用(yòng)特定溶劑洗去被照射/未被照射的光刻膠，就實現(xiàn)了(le)電路圖從(cóng)掩模到(dào)晶片的轉移。簡單來(lái)說，就用(yòng)紫外(wài)線把多層電路圖雕刻在晶圓上(shàng)，而在這(zhè)過程中就必然要用(yòng)到(dào)光刻機。
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