産品名稱:DS-2000/14G型光刻機
主要技術指标:
單次曝光面積:1.4mm×1mm;
大(dà)曝光基片:100mm ×100mm ;
對(duì)準精度:±0.8μm(半自(zì)動對(duì)準);
大(dà)膠厚:300μm(SU8膠);
自(zì)動逐場對(duì)焦;
分辨力:1μm;
X、Y、Z、θ四自(zì)由度電動位移台 ;
X、Y平移重複定位精度:0.65μm(3σ);
Z向運動精度:1μm。
DS-2000/14G型光刻機技術特點:
該機可采用(yòng)紫外(wài)光、深紫外(wài)光、甚至更短波長的極紫外(wài)光作(zuò)爲光源,用(yòng)DMD數字微鏡陣列替代傳統掩模闆,采用(yòng)積木(mù) 錯位蠅眼透鏡實現(xiàn)高(gāo)均勻照明(míng),并配備了(le)雙目雙視(shì)顯微鏡和(hé)CCD圖象對(duì)準系統(可同時(shí)使用(yòng)),拼接獲得大(dà)面積圖形,曝光設定采用(yòng)微機控制,菜單界面友好(hǎo),操作(zuò)簡便。