URE-2000/35型紫外(wài)光刻機使用(yòng)須知(zhī)

　　光刻是使用(yòng)曝光将設計(jì)的掩模圖案轉移到(dào)基闆的過程，URE-2000/35型紫外(wài)光刻機是專爲實驗室研發和(hé)小(xiǎo)批量生産而設計(jì)的高(gāo)分辨率光刻系統。光刻機提供良好(hǎo)的基闆适應性，可夾持的标準尺寸基闆最大(dà)直徑爲150mm。該設備提供多種曝光方式，包括真空(kōng)、軟接觸、硬接觸等，可實現(xiàn)鍵合對(duì)準、納米壓印、微接觸密封等多種功能(néng)。

　　

　　1、穩定的納米分辨率；

　　

　　2、大(dà)面積全場曝光，無需拼接；

　　

　　3、自(zì)由度不受限制，不影響厚膠和(hé)表面翹曲；

　　

　　4、雙工(gōng)作(zuò)模式；

　　

　　5、全息光刻模式：周期性納米結構；

　　

　　6、掩模對(duì)準光刻模式：任何微米結構；

　　

　　7、簡化的曝光工(gōng)藝可實現(xiàn)一鍵式曝光；

　　

　　8、靈活的定制解決方案。

　　

　　URE-2000/35型紫外(wài)光刻機同類産品的優異輸出強度，出色的光束均勻性：3%的可用(yòng)孔徑，更長的弧光燈使用(yòng)壽命：高(gāo)達30000次曝光，即時(shí)啓動，無需超淨室，内置淨化系統可以使系統在大(dà)氣環境中工(gōng)作(zuò)，無需主動冷卻和(hé)外(wài)部冷卻，綠色技術：高(gāo)光能(néng)轉換率（EVU僅爲0.02%），節能(néng)省電；傳統UV加工(gōng)會(huì)存在以上(shàng)問題，光刻操作(zuò)幾分鐘(zhōng)即可完成，維護簡單。

　　

　　URE-2000/35型紫外(wài)光刻機廣泛應用(yòng)于半導體光刻工(gōng)藝、光波導、光栅、MEMS、二極管芯片、發光二極管（LED）芯片制造、顯示面闆LCD、光電器件、納米壓印和(hé)電子封裝。它的使用(yòng)須知(zhī)如下(xià)：

　　

　　1、不要頻繁開(kāi)關汞燈；

　　

　　2、水(shuǐ)銀燈剛開(kāi)機需要預熱一段時(shí)間；

　　

　　3、檢查氮氣。CDA壓力必須爲0.6MPa，N2壓力必須爲0.4MPa。