紫外(wài)光刻機可廣泛用(yòng)于MEMS和(hé)光電子，例如LED生産。它方便處理(lǐ)各種非标準基片、例如混合、高(gāo)頻元件和(hé)易碎的III-V族材料，包括砷化镓和(hé)磷化铟。而且該設備可通過選配升級套件，實現(xiàn)紫外(wài)納米壓印光刻。它具有以下(xià)亮(liàng)點：高(gāo)分辨率掩模對(duì)準光刻，特征尺...

femto可調電流放(fàng)大(dà)器是要求在帶寬值達200MHz從(cóng)小(xiǎo)電流轉換成可用(yòng)的電壓應用(yòng)程序的佳選擇。它非常适合用(yòng)于直流和(hé)交流測量值達200MHz，時(shí)間分辨測量到(dào)該ns區(qū)域和(hé)作(zuò)爲前置放(fàng)大(dà)器可快(kuài)速光電探測器信号。提供了(le)包括可變增益值從(cóng)102到(dào)108V...

Harrick等離子清洗機在各個行業的清洗工(gōng)作(zuò)中起着非常重要的作(zuò)用(yòng)。等離子清洗機确實很(hěn)強大(dà)，安全可靠，可用(yòng)于各種環境領域和(hé)場合，實現(xiàn)高(gāo)效安全使用(yòng)。它的作(zuò)用(yòng)主要表現(xiàn)在這(zhè)些(xiē)方面。1、表面清潔Harrick等離子清洗機在運行過程中可以對(duì)産品表面進...

紫外(wài)光刻機是制造集成電路中重要的設備，特别是現(xiàn)在市面上(shàng)大(dà)部分的芯片都是屬于電子芯片，當電子芯片的工(gōng)藝小(xiǎo)于一定的尺寸的時(shí)候，就必須依靠光刻機在制作(zuò)芯片，也(yě)就是說如果沒有光刻機就沒有辦法制造出頂級的芯片，比如市面上(shàng)7nm芯片、5nm芯片等都不可...

紫外(wài)光刻機新一代紫外(wài)光源：172nm，具有同類産品良好(hǎo)的輸出強度，3%的可用(yòng)孔徑，弧光燈使用(yòng)壽命更長。暴露高(gāo)達30000次，瞬間啓動，無需超淨室，内置淨化系統可使系統在大(dà)氣環境中工(gōng)作(zuò)，無需主動冷卻和(hé)外(wài)部冷卻，無有毒氣體和(hé)汞等物質。高(gāo)光能(néng)轉換...

光刻是使用(yòng)曝光将設計(jì)的掩模圖案轉移到(dào)基闆的過程，URE-2000/35型紫外(wài)光刻機是專爲實驗室研發和(hé)小(xiǎo)批量生産而設計(jì)的高(gāo)分辨率光刻系統。光刻機提供良好(hǎo)的基闆适應性，可夾持的标準尺寸基闆最大(dà)直徑爲150mm。該設備提供多種曝光方式，包括真空(kōng)、...